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光掩模
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  • 网络释义
  • 专业释义
  • 1

    [电子] photomask

    ... tomagnetoelectric 光磁电的 photomask 光掩模 photometer 光度计,曝光表,分光计 ...

  • 2

     optical mask

    ... Optical Mark Recognition: (OMR)光学标记阅读机 optical mask: 光掩模,光屏蔽 optical matched filter: 光匹配滤光器 ...

  • 3

     half-tone mask

    首先提供一基底,并利用一灰阶光掩模(half-tone mask)进行一光刻工艺,以于基底表面形成多个高度不一的 光致抗蚀剂图案。

短语
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  • 双语例句
  • 1
    在整套工艺环节中,掩模版图设计和湿法腐蚀是两个关键步骤。
    The mask design and the wet etching are both key processes in the technology introduced.
  • 2
    本发明相比于公知的像素结构制作方法,可以简化工艺步骤并减少掩模的制作成本。
    Compared with the well known manufacturing method of a pixel structure, the invention can simplify processing steps and reduces the manufacturing cost of photomask.
  • 3
    对薄层电阻、接触、掩模对准、线条宽度、器件参数与掺杂的相关性等内容进行了初步试验和分析。
    The initial experiments on and analysis of sheet resistance, contact, photomask alignment, line width, and correlations between device parameters and dopants have been made.
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